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光刻機(jī)之王的逆襲之路

談起芯片就繞不開一個詞——光刻機(jī)。有人說制造一臺先進(jìn)的光刻機(jī)比造一顆原子彈還難,而談起光刻機(jī)就繞不開ASML(阿斯麥),先進(jìn)EUA光刻機(jī)唯一供應(yīng)商。

身為光刻機(jī)之王,ASML的崛起之路并不平坦。

第一次光刻機(jī)大戰(zhàn):稱霸的美國人

1904年,弗萊明發(fā)明了真空二極管,標(biāo)志著人類進(jìn)入電子時代;

1947年,貝爾實驗室三人組發(fā)明了晶體管,這一偉大的發(fā)明改變了人類歷史,晶體管的發(fā)明引發(fā)了電信和電腦等各方面的革命,隨之取代了真空管的地位。晶體管是所有電子產(chǎn)品的細(xì)胞,現(xiàn)代電腦芯片上有上億個微小的晶體管。

1959年,集成電路誕生。同年,傳奇公司GCA收購了David Mann;而在1961David Mann推出了世界上第一臺光刻機(jī)——971型,這臺光刻機(jī)完全能夠滿足當(dāng)時晶體管的制造水平,IBM、太平洋半導(dǎo)體、IT以及飛利浦都在使用這款光刻機(jī)。

不少企業(yè)都想復(fù)制David Mann的成功,于是紛紛踏入光刻機(jī)市場,競爭變得激烈。盡管如此,當(dāng)年的光刻機(jī)市場還是很小,當(dāng)時市面上只有兩種光刻機(jī):接觸式光刻機(jī)和漸進(jìn)式光刻機(jī),這兩種光刻機(jī)生產(chǎn)的芯片良率很低,因此芯片價格極高。

1974年,在美國軍方的支持下,Perkins Elmer推出了劃時代的光刻機(jī)——Micralign 100。光刻技術(shù)進(jìn)入了投影式時代。芯片良率大幅度提升,芯片價格隨之降低,英特爾、IT的訂單也隨之而來,Perkins Elmer成了當(dāng)時最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。

隨著芯片制程縮小,Perkins Elmer遲遲沒有開始下一代光刻機(jī)的研發(fā),GCA憑著首臺搭載自動化硅片工件臺的步進(jìn)式光刻機(jī)——DSW 4800奪回市場,尼康和佳能也后來居上。

步進(jìn)式光刻機(jī)

80年代之前,光刻機(jī)的競爭主要圍繞美國幾個廠商間進(jìn)行展開,美國人賺了第一桶金。

第二次光刻機(jī)大戰(zhàn):逆襲的日本人

在美國的廠商們正激烈競爭時,日本廠商悄然崛起。

1980年,尼康通過山寨GCA的光刻機(jī),成功推出了自己的首臺步進(jìn)式光刻機(jī),隨后在日本電氣和東芝的加持下,尼康不斷迭代更新技術(shù),在1982年成功把光刻機(jī)賣給了IBMIT。

尼康NSR-1010G光刻機(jī)
尼康的NSR-1010G

外有尼康的競爭,內(nèi)有光刻機(jī)產(chǎn)能問題,1984GCA的出貨量被尼康打平。同年,佳能也推出了自己的首款步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-1500FA。

僅一年時間,尼康正式超過GCA,成為全球第一大光刻機(jī)供應(yīng)商。

第三次光刻機(jī)大戰(zhàn):崛起的歐洲人

在日美廠商競爭白熱化的時候,歐洲也開始搞光刻機(jī)了。

飛利浦是歐洲最先研發(fā)光刻機(jī)的,198441ASML脫胎飛利浦正式成立,但是在成立之后的10年間,ASML都不曾盈利。ASML第一任CEO賈特·斯密特決定開發(fā)新一代采用電動晶圓臺的光刻機(jī)——PAS 2500。敢于挑戰(zhàn),重視創(chuàng)新,通力合作,ASML推開了光刻機(jī)世界的大門!

1986年,ASML開始與蔡司進(jìn)行深入合作,改進(jìn)光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng),推出第二代PAS 2500,并第一次賣給了當(dāng)時還是初創(chuàng)公司的Cypress。與日本相比,ASML的光刻機(jī)還是不好賣,就連飛利浦都沒能拯救ASML,這時,臺積電來了。

時勢造英雄,兩個默默無聞的公司因飛利浦MEGA項目的失敗相遇了。1988年,臺積電的17臺光刻機(jī)訂單讓ASML勉強(qiáng)度過難關(guān),讓ASML有精力繼續(xù)研究光刻機(jī)。于是ASML歷史上劃時代的作品誕生:PAS 5500,ASML翻身之作。1991年,ASML幾經(jīng)波折爭取到了IBM的訂單,有IBM在前驗證,ASML的光刻機(jī)的實力被更多廠商肯定,三星、海力士的訂單隨之而來。1995314日,ASML在美國納斯達(dá)克成功上市。

與尼康的世紀(jì)之戰(zhàn)即將打響!

一代設(shè)備,一代工藝。本世紀(jì)初,光刻機(jī)的波長來到157nm,尼康一直在光源上做文章,專注于對157nm技術(shù)的研發(fā),結(jié)果不盡人意。而ASML放棄了157nm,在臺積電的支持下,轉(zhuǎn)投其他新技術(shù)。2004年,ASML正式推出浸沒式光刻機(jī)的原型機(jī);2006年,ASMLXT 1400i進(jìn)入英特爾并順利通過40nm工藝的驗證,其余廠商紛紛選擇ASML的光刻機(jī),尼康推出的157nm的光刻機(jī)無人問津。

ASML的第一臺浸潤式光刻機(jī)XT 1400i
ASML的第一臺浸潤式光刻機(jī)XT 1400i

2009年,ASML擁有近7成的市場份額,遠(yuǎn)超對手尼康。2010年,ASML誕生出人類第一臺EUV工程樣機(jī):NXE 31002012年收購Cymer,加大對EUV的研發(fā)力度,2018年,正式商用版的EUV光刻機(jī)NXE 3300開始出貨。

EUV光刻機(jī)NXE 3300

本次光刻機(jī)之戰(zhàn),尼康落敗,ASML開啟封王之路。光刻機(jī)領(lǐng)域,ASML占到90%以上。

芯片制程縮小至3nm,對EUA光刻技術(shù)的要求會更加嚴(yán)苛,新技術(shù)還得看ASML。

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